Alumulum Aluminium Hydroxide (Formula Kimia Al (Oh) yaiku bubuk putih sing disiapake dening teknologi putih lan klasifikasi udara, kanthi ukuran ≥ 99.5% lan ukuran rata-rata sing bisa dikendhaleni ing antarane 0.5-10 μ. Kaluwihan inti ditampilake ing:
Keseragaman Ukuran partikel: Nganggo teknologi pemurihan nanoscale, distribusi ukuran partikel wis sempit (D90-D10 ≤ 3 μ M), rapat syarat bubuk ing lapangan dhuwur.
Rintangan nyandhang dhuwur: tingkat kekerahan saka 3-3.5, entuk pemotongan sing efisien sajrone polong nalika ngindhari karusakan, sing cocog kanggo bahan tliti lan sapir.
Stabilitas kimia: asam asam lan alkali resistensi (stabil ing pH 3-11), ora reaksi karo sistem senyawa organik, adaptasi sistem subtrat kayata resin lan karet, lan nambah skenario aplikasi.
Ground Aluminium Hydroxide digunakake minangka aditif halogen sing reti-retarter sing ramah ing macem-macem aplikasi.groved.mroved hidroksida, kalebu aluminium hidroksida liyane, kalebu aluminium hydroxide, Viscoosity Viscosity aluminium hidroksida, produk kasebut bisa digunakake minangka retardant flamant ing produk plastik lan karet. Kita nyedhiyakake hidroksida aluminium sing berkualitas kanthi rega murah lan layanan sing apik
Properties fisik lan kimia
Properties Umum
| Item | Unit | ATH-10 | ATH-12 | Ath-17 | ATH-20 |
| Al2o3 | % | ≥64.0 | ≥64.0 | ≥64.0 | ≥64.0 |
| Sio2 | % | ≤0.04 | ≤0.04 | ≤0.04 | ≤0.04 |
| Fe2o3 | % | ≤0.02 | ≤0.02 | ≤0.02 | ≤0.02 |
| Na2o | % | ≤0.4 | ≤0.4 | ≤0.4 | ≤0.4 |
| Kerugian ing kontak | % | 34.0 ~ 35.0 | 34.0 ~ 35.0 | 34.0 ~ 35.0 | 34.0 ~ 35.0 |
| Kelembapan | % | ≤0.3 | ≤0.3 | ≤0.3 | ≤0.3 |
| Ateges diameter partikel | μm | 8 ~ 12 | 12 ~ 15 | 15 ~ 18 | 18 ~ 22 |
| Putih | Hw-a | ≥95 | ≥95 | ≥95 | ≥95 |
| Putih | Hw-b | ≥93 | ≥93 | ≥93 | ≥93 |
| Putih | GW | ≥90 | ≥90 | ≥90 | ≥90 |
| Putih | Hw-a | ≥95 | ≥95 | ≥95 | ≥95 |
| pH value | 8.5 ~ 11.5 | 8.5 ~ 11.5 | 8.5 ~ 11.5 | 8.5 ~ 11.5 |
Aplikasi:Disaranake digunakake ing komposisi plastik, sabuk convevyer, ePoxy Severe lan senyawa basis karet liyane
1. Elektronik lan Semikonduktor
Wafer polish:
Nano ukuran aluminium alumRoksida (D50 = 0,5 μ M) digunakake kanggo CMP (Polandia Mekanikal Kimia) Slorry, sing bisa ngontrol tingkat penghapusan permukaan (50-100nm / Min), lan adaptasi kanggo ngolah ngisor 14NM.
Bahan Kemasan Elektronik:
Tambah 30-50% kanggo epoksi epo kanggo nambah konduktivitas termal kanggo 1,5w / (m · k), nalika nyuda koefisien ekspansi termal (CTE ≤ 10ppm / ℃), cocog kanggo 5p), cocog kanggo 5p)
2. Abrasives lan Keramik
Solusi Polishing End End:
Ngganti cerium oksida ing polish kaca optik nambah efisiensi penggilingan 20% lan nyuda tingkat kekurangan permukaan sing bisa digunakake kanggo 0,1 / mm, sing cocog kanggo kaca tutup ponsel lan lensa kamera.
Keramik struktural:
Minangka agen sing wis dibentuk, nambah 5-10% bisa ngasilake AL ₂ O ⅲ lan ngeculake gas liwat suhu suhu dhuwur (ndhuwur 300 ℃), sing bisa ngatur keraming selir lan cocok karo operator lan katalis.
3 .. Katrangan lan bahan komposit
Nganggo lapisan tahan:
Nambah 20-30% lapisan lapisan polyurethane bisa nambah kekerasan potlot dadi 6h lan nyandhang resistensi 40%. Cocog kanggo perlindungan permukaan peralatan aeroangkasa lan lantai industri.
Modifikasi Polimer:
Nambah 15-20% kanggo nilon pa6 bisa nambah kekuatan mlengkung 15% lan nyuda koefisien gesekan ing ngisor 0,2, kanthi cocog kanggo Gears lan kandhang presisi.
Kemasan:Net bobot 25kg / tas, tas kertas plastik
Panyimpen lan manungsa waé:Terus ing suhu garing, kamar lan kahanan kelembapan kelembapan, nyegah pemanasan
Sugeng rawuh ing urutan aluminium aluminium
Hubungi, 24 jam dina, 7 dina seminggu.
alamat
Lvye Road West, Taman Nasional Dao Town, Zona Pengembangan & Teknologi Mingshui, Zhangqiu, Jinan, China
Telp
